A microeletrônica moderna exige infraestruturas de chips cada vez mais compactas, potentes e eficientes. Um papel fundamental nesse cenário é desempenhado pelo interposer, que atua como uma camada adaptadora entre o chip de silício e a placa de circuito impresso (PCB). Ele conecta as estruturas mais finas do chip aos passos de trilha condutora mais grosseiros e garante o roteamento de sinal sem perdas entre os dois níveis. A escolha do substrato do interposer determina a qualidade do sinal, a confiabilidade e os custos de produção.
No entanto, com a crescente demanda por embalagens 2.5D, interposers 3D-IC, interposers chiplet e aplicações de alta frequência, como radar ou 5G, os materiais convencionais estão atingindo cada vez mais seus limites:
A indústria busca, portanto, um material que combine precisão, estabilidade em frequência e eficiência de custos. A solução: substratos de interposer baseados em PEEK da Ensinger. Este polímero de alta performance combina a resolução fina de um interposer de silício com a flexibilidade e a eficiência de custos dos interposers orgânicos, ampliando significativamente as capacidades das tecnologias convencionais.
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A escolha do material correto é determinante para definir com que eficiência, rapidez e confiabilidade um interposer desempenha sua função. Embora o silício, o vidro e os polímeros orgânicos já se tenham estabelecido como materiais consagrados, o PEEK — como uma nova classe de polímero de alta performance — abre possibilidades inteiramente novas em termos de desempenho, integração de processos e sustentabilidade.
Graças às suas excepcionais propriedades elétricas, mecânicas e térmicas, o PEEK combina as vantagens dos materiais existentes e estabelece novos parâmetros de referência em transparência de RF, estabilidade química e compatibilidade de processo — como um material de substrato inovador para interposers de próxima geração de alta performance e fabricação economicamente viável.
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